单晶硅片的低温抛光技术

韩荣久; 孙恒德; 徐德全; 张云; 王立江

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单晶硅片的低温抛光技术

论文 | 更新时间：2020-08-12

- 单晶硅片的低温抛光技术
- Cryogenic Polishing Technology of Monocrystalline Silicon Wafer
- 光学精密工程 1998年6卷第5期页码：104-109
- 作者机构：
  
  1. 中科院长春光学精密机械研究所, 长春 130022
  2. 吉林工业大学机械工程学院, 长春 130022
- 作者简介：
- 基金信息：
  
  应用光学国家重点实验室基金()
- DOI：
  中图分类号：
- 收稿日期：1998-06-09，
  
  网络出版日期：1998-10-15，
  
  纸质出版日期：1998-10-15
- 稿件说明：
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韩荣久, 孙恒德, 徐德全, 张云, 王立江. 单晶硅片的低温抛光技术[J]. 光学精密工程, 1998,(5): 104-109

HAN Rong-Jiu, SUN Heng-De, XU De-Quan, ZHANG Yun, WANG Li-Jiang. Cryogenic Polishing Technology of Monocrystalline Silicon Wafer[J]. Editorial Office of Optics and Precision Engineering, 1998,(5): 104-109
韩荣久, 孙恒德, 徐德全, 张云, 王立江. 单晶硅片的低温抛光技术[J]. 光学精密工程, 1998,(5): 104-109 DOI：

HAN Rong-Jiu, SUN Heng-De, XU De-Quan, ZHANG Yun, WANG Li-Jiang. Cryogenic Polishing Technology of Monocrystalline Silicon Wafer[J]. Editorial Office of Optics and Precision Engineering, 1998,(5): 104-109 DOI：

摘要

介绍了一种光学材料抛光新技术--低温抛光技术。首先把抛光液冷冻成低温抛光模层

并对单晶硅片做抛光实验

实验结果表明这是一种很好的光学材料抛光方法。

Abstract

This paper presents an optical polishing technology cryogenic polishing technology.The polishing liquid is frozen into polisher layer at low temperature at first and then polishing experiments on monocrystalline silicon are taken.It has been shown that this technology is a good new way to polish optical materials.

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