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液体喷射抛光技术材料去除机理的有限元分析
更新时间:2020-08-12
    • 液体喷射抛光技术材料去除机理的有限元分析

    • Analysis of material removal mechanism in fluid jet polishing by finite element method

    • 光学精密工程   2006年14卷第2期 页码:218-222
    • 中图分类号: TQ171.684
    • 收稿日期:2005-12-22

      修回日期:2006-01-18

      网络出版日期:2006-04-30

      纸质出版日期:2006-04-30

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  • 方 慧, 郭培基, 余景池. 液体喷射抛光技术材料去除机理的有限元分析[J]. 光学精密工程, 2006,14(2):218-222. DOI:

    FANG Hui, GUO Pei-ji, YU Jing-Chi. Analysis of material removal mechanism in fluid jet polishing by finite element method[J]. Optics and precision engineering, 2006, 14(2): 218-222. DOI:

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相关作者

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重庆大学光电技术及系统教育部重点实验室
中国科学院大学
重庆大学 光电学院 新型微纳器件与系统技术国家重点学科实验室
厦门大学 萨本栋微机电研究中心
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