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考虑磨粒轨迹和研磨垫磨损均匀性的研磨盘转速优化
微纳技术与精密机械 | 更新时间：2026-01-14

    • 考虑磨粒轨迹和研磨垫磨损均匀性的研磨盘转速优化

    • Optimizing lapping plate rotational speed based on trajectory and pad wear uniformity

    • “在固结磨料研磨技术领域，专家分析了研磨盘转速对熔融石英工件表面粗糙度和平面度的影响，为优化研磨盘转速提供理论依据和实践参考。”
    • 光学精密工程   2025年33卷第24期 页码：3864-3874

    • DOI：10.37188/OPE.20253324.3864    

      中图分类号： TH161+.1;TG73
    • CSTR：32169.14.OPE.20253324.3864    

    • 收稿：2025-10-13，

      修回：2025-11-19，

      纸质出版：2025-12-25

    移动端阅览

  • 贾玙璠,朱祥龙,陈杰等.考虑磨粒轨迹和研磨垫磨损均匀性的研磨盘转速优化[J].光学精密工程,2025,33(24):3864-3874. DOI： 10.37188/OPE.20253324.3864. CSTR： 32169.14.OPE.20253324.3864.

    JIA Yufan,ZHU Xianglong,CHEN Jie,et al.Optimizing lapping plate rotational speed based on trajectory and pad wear uniformity[J].Optics and Precision Engineering,2025,33(24):3864-3874. DOI： 10.37188/OPE.20253324.3864. CSTR： 32169.14.OPE.20253324.3864.

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