双掩膜硅-玻璃键合不等高工艺实现低电压小尺寸MEMS微镜

历润龙; 孙治宇; 杜晨喆; 卢文娟; 赵前程

doi:10.37188/OPE.20263405.0734

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双掩膜硅-玻璃键合不等高工艺实现低电压小尺寸MEMS微镜

微纳技术与精密机械 | 更新时间：2026-03-12

- 双掩膜硅-玻璃键合不等高工艺实现低电压小尺寸MEMS微镜
- Low-voltage and compact MEMS micromirror based on double-mask silicon-glass bonding unequal height process
- “相关研究团队在微机电系统（MEMS）领域取得新进展，专家们提出并验证了一种基于硅-玻璃键合不等高工艺的小型化MEMS静电驱动微镜方案，为光通信系统中功耗与尺寸受限问题提供了高效技术路径。”
- 光学精密工程 2026年34卷第5期页码：734-742
- 作者机构：
  
  1.安徽大学集成电路学院，安徽合肥 230601
  2.北京大学微米纳米加工技术全国重点实验室，北京 100871
- 作者简介：
  
  [ "历润龙（2001-），男，河南信阳人，硕士研究生，2023年于天津理工大学获得学士学位，主要研究方向为MEMS惯性器件工艺。E-mail：lirl1117@stu.ahu.edu.cn" ]
  [ "赵前程（1975-），男，黑龙江鸡西人，博士，正高级工程师，2007年于北京大学获得博士学位，主要研究方向为微机电惯性器件结构及工艺。E-mail：zqc@pku.edu.cn" ]
- 基金信息：
  
  微米纳米加工技术全国重点实验室基金资助项目(2023MNFAB01)
- DOI：10.37188/OPE.20263405.0734
  中图分类号： TH703;TN304
- CSTR：32169.14.OPE.20263405.0734
- 收稿：2025-12-17，
  
  修回：2026-01-18，
  
  纸质出版：2026-03-10
- 稿件说明：
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历润龙,孙治宇,杜晨喆等.双掩膜硅-玻璃键合不等高工艺实现低电压小尺寸MEMS微镜[J].光学精密工程,2026,34(05):734-742.

LI Runlong,SUN Zhiyu,DU Chenzhe,et al.Low-voltage and compact MEMS micromirror based on double-mask silicon-glass bonding unequal height process[J].Optics and Precision Engineering,2026,34(05):734-742.
历润龙,孙治宇,杜晨喆等.双掩膜硅-玻璃键合不等高工艺实现低电压小尺寸MEMS微镜[J].光学精密工程,2026,34(05):734-742. DOI： 10.37188/OPE.20263405.0734. CSTR： 32169.14.OPE.20263405.0734.

LI Runlong,SUN Zhiyu,DU Chenzhe,et al.Low-voltage and compact MEMS micromirror based on double-mask silicon-glass bonding unequal height process[J].Optics and Precision Engineering,2026,34(05):734-742. DOI： 10.37188/OPE.20263405.0734. CSTR： 32169.14.OPE.20263405.0734.

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