لتحسين أداء تحفيز وتلميع التدفق المغناطيسي، تم اقتراح طريقة لترتيب المغناطيس الدائم بناءً على مصفوفة Halbach، وتم تحليل تأثير معلمات العملية على أداء تلميع زجاج K9. من خلال محاكاة المجال المغناطيسي تم مقارنة قوة المجال، كثافة التدفق المغناطيسي، توزيع التدرج وحالة قوى مسحوق كربونيل الحديد بين مصفوفة Halbach والمصفوفة التقليدية ذات أقطاب N-S المتناوبة ومصفوفة التناوب الداخلية والخارجية؛ مع التجارب أحادية العامل، تم بحث تأثير سرعة دوران القطعة، سرعة دوران المجال المغناطيسي، الفجوة العمل والفجوة التحفيزية على خشونة السطح ومعدل إزالة المادة. تقوم مصفوفة Halbach بتوسيع المنطقة الفعالة للمجال المغناطيسي مع الحفاظ على تجانس جيد، مما يزيد من قوة المجال وتأثير الجسيمات الكاشطة، مما يُظهر أداء تحفيزي ممتاز؛ مع زيادة سرعة دوران القطعة، سرعة دوران المجال، والفجوة العملية، تقل خشونة السطح أولاً ثم تزداد، ومعدل إزالة المادة يزداد أولاً ثم يقل؛ زيادة الفجوة التحفيزية يؤدي إلى ارتفاع مستمر في الخشونة وانخفاض في معدل إزالة المادة. تحت شروط سرعة دوران القطعة 650 دورة/دقيقة، سرعة دوران المجال 70 دورة/دقيقة، فجوة العمل 1.2 مم، فجوة التحفيز 4 مم، وتلميع لمدة 30 دقيقة، وصل خشونة سطح زجاج K9 إلى 0.0297 ميكرومتر، ومعدل إزالة المادة إلى 51.928 نانومتر/دقيقة. طريقة تحفيز مصفوفة Halbach وعملية التلميع حسنا أداء تلميع التدفق المغناطيسي.

تلميع التدفق المغناطيسي;مصفوفة Halbach;زجاج K9;خشونة السطح;معدل إزالة المادة