Pour répondre aux exigences de mouvement multidimensionnel, à longue course et haute précision dans le domaine de la micro-manipulation et micro-assemblage, une plateforme de mouvement parallélisée découplée à deux degrés de liberté multi-échelle à entraînement piézoélectrique à collage et glissement est proposée. Un mécanisme souple actionné par fibre piézoélectrique est utilisé, avec une unité motrice paroi-structure intégrée en forme d’arche pour réaliser une résolution de mouvement nanométrique, augmenter le déplacement unitaire par pas et découpler le mouvement dans le plan bidimensionnel. Ensuite, le principe d’entraînement à collage et glissement est utilisé pour réaliser un mouvement à longue course, et des roulements universels avec des colonnes de support réglables augmentent la capacité de charge. Ensuite, un modèle théorique de la plateforme est établi par la méthode des éléments finis, avec une analyse par simulation des déplacements de sortie et des fréquences propres. Enfin, une plateforme expérimentale est construite pour tester les performances associées. Les résultats expérimentaux montrent que lors d’un mouvement par pas continu, le déplacement unitaire maximal de la plateforme piézoélectrique de mouvement à collage et glissement le long des directions x et y est respectivement de 249,6 μm et 237,3 μm, avec une plage de mouvement de 16,10 mm × 16,08 mm ; même sous une charge verticale de 30 N, la plateforme de mouvement à collage et glissement peut toujours fournir un déplacement unitaire de 16,0 μm. De plus, lors d’un mouvement précis par pas, la résolution de déplacement est respectivement de 6,3 nm et 6,8 nm. Par conséquent, la plateforme de mouvement à collage et glissement piézoélectrique conçue peut répondre aux exigences de mouvement multi-dimensionnel multi-échelle micro-nano.

Entraînement piézoélectrique;Mouvement à collage et glissement;Mécanisme souple;Deux degrés de liberté