摘要
シリコン酸化物導波路コア層の側壁の粗さと角度は、デバイスに光損失を引き起こす主な原因の一つです。被覆層の堆積後にシリコン酸化物導波路コア層の側壁角度を正確に測定するために、光学顕微鏡を用いた導波路側壁角度の測定方法を研究し、測定誤差を引き起こす顕微鏡対物レンズの倍率と像特性との関係を詳細に分析しました。理論解析に基づいて導波路側壁角度の測定値を補正し、得られた実験結果はレーザ共焦点測定結果と一致しました。この測定方法を用いて、被覆層が堆積された導波路コア層の側壁角度を10群に対して測定し、被覆層未堆積時のレーザ共焦点測定結果と比較したところ、測定精度は±1°以内であることが示されました。この方法は、被覆層堆積後のシリコン酸化物導波路デバイスのコア層側壁角度の測定に対し、正確かつ実現可能なソリューションを提供します。
关键词
光学測定;シリコン酸化物導波路;光学顕微鏡;堆積後導波路コア層;側壁角度
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