スキャン干渉リソグラフィ装置の加工効率と加工精度を向上させ、加工範囲を拡大し、メンテナンスコストを削減するために、干渉縞の周期、方向、位相を同期的かつリアルタイムに調整制御可能なスキャン干渉リソグラフィ装置のシステム案を提案し、最も重要な一定光強干渉縞位相ロックシステムの設計について重点的に紹介した。まず、スキャン干渉リソグラフィにおける干渉縞の周期、方向、位相の同期リアルタイム調整制御のシステム原理案を紹介し、一定光強外差音響光周波数変調方式の干渉縞位相ロック制御システムを設計・実装した。次に、制御システムの理論モデルを解析し、実際のシステムモデルの同定と高次線形フィッティングを行い、システムコントローラを設計した。最後に、このコントローラを基に調整と縞ロック制御を行った。実験結果では、縞ロック制御を開始後、100 Hz以下の低周波擾乱成分が顕著に抑制され、干渉パターン位相ロックの残留誤差は0.0693ラジアン（3σ）で、位相変化は±0.01干渉縞周期未満であった。光ビーム偏差制御誤差が100 μmに達してもインターフェレンス縞ロック性能は安定して維持された。このシステムは異なる干渉姿勢下での干渉縞の高精度ロックを実現するだけでなく、光ビーム制御誤差の余裕も大きく、干渉縞の周期、方向、位相の同期リアルタイム制御を実現するスキャン干渉リソグラフィ装置の要求を満たしている。

スキャン干渉リソグラフィ;縞ロック;外差位相測定干渉計