摘要
従来の長焦深ビーム生成装置、例えば空間光変調器や正負レンズの組み合わせは、光学部品のサイズが大きいことやマイクロナノ光学システムとの統合が難しいという問題があります。そこで、長焦深ビームを生成する方法を開発し、構造が簡単でコンパクトなサイズで良好な画像品質を持つ長焦深ビーム装置の製作が特に重要です。連続立方位相板を用いた長焦深ビーム生成法を提案し、フェムト秒レーザー直接書き込み技術により高精度寸法（直径108 μm、高さ1.1 μm）の位相板を作製し、調整可能な焦点距離長（50〜150 μm）と焦点深度（100〜600 μm）を実現しました。位相板の光学試験を行い、長焦点能力と像形成能力を示しました。本装置は高性能集積光学システムやマイクロナノ光学製造などの分野で使用可能です。
关键词
フェムト秒レーザー加工;長焦深ビーム;位相板;光学シミュレーション;光学試験
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