ナノメートル計測技術はナノスケールでの高精度測定技術であり、先進的なナノ製造技術の基盤です。中でもトレーサビリティはナノ計測の基盤的な問題であり、ナノ計測トレーサビリティの伝達を実現し、ナノ幾何量の測定の統一性と正確性を保証するための重要な段階は、ナノ計測標準物質の開発です。ナノ計測の平坦な値伝達トレーサビリティの要求に適応するため、クロム遷移周波数に基づき、原子リソグラフィー技術と軟X線干渉技術を用いて、1D 212.8 nm、2D 212.8 nm、1D 106.4 nm の3種類の自己トレーサブル光格子標準物質を製作しました；多層膜堆積技術によりシリコンナノワイヤの幅構造を開発し、シリコン格子定数に基づく自己トレーサブルなシリコンナノワイヤ幅測定法を探究しました。応用分野では、自己トレーサブル光格子を用いて走査型プローブ顕微鏡、走査型電子顕微鏡などの高精度測定機器の校正研究を行いました。研究結果は、自己トレーサブル標準物質およびその測定方法が精密機器と加工技術の過程におけるナノ長さ計測トレーサビリティチェーンを短縮し、先進的なナノ製造および次世代情報技術の強力な支援となることを示しています。

ナノテクノロジー; ナノ計測; 自己トレーサブル標準物質; 原子リソグラフィー技術; 軟X線干渉リソグラフィー技術; 多層膜堆積技術