薄膜ミラーのナノ秒極紫外線照射損傷

LI Wenbin ,  

LI Shuhui ,  

PAN Liuyang ,  

ZHANG Zhe ,  

XIE Chun ,  

HUANG Qiushi ,  

WANG Zhanshan ,  

摘要

超短かつ超強力な自由電子レーザーなどの光源の応用に伴い、極紫外線およびX線波長帯の薄膜ミラーの耐放射線性能に注目が集まっています。本論文では、IPOE研究所が構築したナノ秒極紫外線照射損傷装置を紹介し、極紫外線-X線自由電子レーザーで一般的に使用されるB4C薄膜ミラー、AuおよびRuの単層金属膜ミラー、B4C/Ru二層膜ミラー、および極紫外線リソグラフィ用Mo/Si多層膜ミラーに対して照射損傷試験を実施しました。異なる材料および構造の薄膜ミラーの耐損傷性能を得て、理論シミュレーションと併せて熱融解、熱応力、および膜間拡散反応などの損傷メカニズムの役割を明らかにしました。

关键词

極紫外線;薄膜ミラー;耐損傷性能;損傷メカニズム

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