磁流変抛光は、円錐面の低表面損傷と形状誤差の効率的抑制を実現する重要な工程である。しかし、円錐面の磁流変抛光除去関数は歪みが深刻であり、その歪みの規則は複雑である。既存の方法では除去関数モデルを直接かつ効果的に構築することが困難であり、面形の収束効率が低下している。本論文は、円錐面の曲率効果が磁流変抛光除去関数の歪みに与える影響メカニズムを分析し、平均曲率に関する除去関数の標準化特徴パラメータの解析規則を研究し、平面から円錐面への磁流変抛光除去関数演繹法を確立した。本方法は円錐面除去関数の長さ、幅、体積除去率、ピーク除去率の変化規則を総合的に演繹に取り入れ、円錐面曲率効果下の磁流変抛光除去関数の歪み特性をより包括的に反映するとともに、理化学特性パラメータの測定や複雑な方程式・非線形問題の解決を回避し、実用条件下における円錐面除去関数演繹のための有効かつ低コストな方法を提供する。繰り返し点検実験の結果、円錐面除去関数の特徴パラメータの演繹誤差は3.20％〜12.02％であり、本演繹法の適用性の高さを実証した。

円錐面鏡;磁流変抛光;除去関数演繹法;特徴パラメータ;平均曲率