磁気流変化研磨の励磁性能および加工品質を向上させるために、Halbach 配列に基づく永久磁石配置方式を提案し、加工パラメータが K9 ガラス研磨性能に及ぼす影響規則を分析した。磁場シミュレーションにより、Halbach 配列と従来の N-S 極交互配列および内外交互配列の磁場強度、磁束密度モジュール、勾配分布およびカルボニル鉄粉の受力状況を比較し、単一要因実験と組み合わせて、被加工物回転速度、磁場回転速度、作業間隙および励磁間隙が表面粗さおよび材料除去率に及ぼす影響規則を検討した。Halbach 配列は磁場の有効作用面積を拡大し、良好な均一性を維持し、磁場強度および研磨粒子への力を高め、優れた励磁性能を示した。被加工物回転速度、磁場回転速度および作業間隙が増加すると、表面粗さは一旦低下後上昇し、材料除去率は一旦増加後減少した。励磁間隙の増加は粗さの継続的な上昇と材料除去率の低下をもたらした。被加工物回転速度650 r/min、磁場回転速度70 r/min、作業間隙1.2 mm、励磁間隙4 mm、研磨30分の条件で、K9 ガラスの表面粗さは0.0297μm、材料除去率は51.928nm/minに達した。Halbach 配列励磁方式およびその研磨工程は、磁気流変化研磨性能を効果的に向上させた。

磁気流変化研磨;Halbach 配列;K9 ガラス;表面粗さ;材料除去率