공간 광 변조기를 기반으로 한 무마스크 광학식 리소그래피는 리소그래피 기술 발전의 중요한 방향 중 하나이다. 최근 수년간 디지털 마이크로미러 장치의 칩 집적도와 성능 향상으로 디지털 마이크로미러 장치 무마스크 리소그래피는 주요 디지털 리소그래피 기술이 되었다. 그레이스케일 조절이 가능한 빛 반사형 "디지털 마스크"가 전통적인 광학식 리소그래피에서 사용되는 선제작물리적 광마스크판을 대체함에 따라 이 기술은 리소그래피 마스크 제작 공정을 크게 단순화하고 리소그래피의 유연성을 향상시켜 평면 미소‧나노 소자, 초재료, 미세유체기기, 조직 생물학 연구 등 분야에 널리 응용되고 있다. 디지털 무마스크 리소그래피 원리를 출발점으로 전형적인 균일 조명 시스템 구조 및 축소 투영 시스템 구조를 간략히 소개한 후 평면 리소그래피를 위한 공간 해상도 향상 기술, 그레이스케일 리소그래피 기술 및 3차원 미세 입체 리소그래피 기술의 발전 현황을 소개한다. 마지막으로 몇 가지 전형적인 디지털 무마스크 리소그래피 응용 사례를 나열하고 향후 발전 방향을 전망한다.

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