전통적인 장초점 심도 빔 발생 장치인 공간광조절기 및 플러스-마이너스 렌즈 조합 등은 광학 부품의 크기가 크고 미세 나노 광학 시스템과의 통합이 어려운 문제를 가지고 있습니다. 따라서 장초점 심도 빔을 생성하는 방법을 개발하고 구조가 단순하며 크기가 콤팩트하고 우수한 영상 품질을 가진 장초점 심도 빔 장치를 제작하는 것이 매우 중요합니다. 연속적인 3차 위상판 변조를 이용하여 장초점 심도 빔을 생성하는 방법을 제안하였고, 펨토초 레이저 직접 가공 기술을 통해 고정밀 치수(직경 108 μm, 높이 1.1 μm)의 위상판을 제작하였으며, 조절 가능한 초점 거리 길이(50~150 μm)와 초점 심도(100~600 μm)를 달성하였습니다. 위상판에 대한 광학 테스트를 진행하여 장초점 집중 능력과 영상 능력을 확인하였습니다. 해당 장치는 고성능 집적 광학 시스템 및 미세 나노 광학 제조 등 분야에 활용될 수 있습니다.

펨토초 레이저 가공; 장초점 심도 빔; 위상판; 광학 시뮬레이션; 광학 테스트