나노미터 측정 기술은 나노 크기에서의 정밀 측정 기술로, 첨단 나노 제조 기술의 기초입니다. 그중 추적성은 나노미터 측정의 기본 문제이며, 나노미터 측정 추적성 전달을 실현하고 나노 기하량 측정의 통일성과 정확성을 보장하는 핵심 단계는 나노미터 측정 표준물질의 개발입니다. 나노미터 측정 평면 값 전달 추적성 요구에 맞추어 크롬 전이 주파수를 기반으로 원자 리소그래피 기술과 연질 X선 간섭 기술을 사용하여 1D 212.8 nm, 2D 212.8 nm, 1D 106.4 nm 3종의 자추적 광격자 표준물질을 제작하였습니다; 다층 막 증착 기술을 기반으로 실리콘 나노와이어 폭 구조를 개발하고, 실리콘 격자 상수를 기반으로 한 실리콘 나노와이어 폭 자추적 측정 방법을 탐구하였습니다. 응용 분야에서는 자추적 광격자를 사용하여 주사 프로브 현미경, 주사 전자 현미경 등 고정밀 측정 기기의 교정 연구를 진행하였습니다. 연구 결과는 자추적 표준물질과 그 측정 방법이 정밀 기기 및 가공 기술 과정에서 나노 길이 측정 추적 사슬을 단축하여 첨단 나노 제조와 차세대 정보 기술을 강력히 지원함을 보여줍니다.

나노기술; 나노계측; 자추적 표준물질; 원자 리소그래피 기술; 연질 X선 간섭 리소그래피 기술; 다층 막 증착 기술