자기유변 폴리싱 액 내 연마 입자 응집이 광학 유리 부품의 마모 성능에 미치는 영향을 연구하기 위해 환경 제어가 가능한 직선 왕복 마찰 마모 시험기를 사용하여 스테인리스강 구를 대마찰 부재로 하였고 용융 석영을 기판으로 하여 자기유변 폴리싱 액 내 나노 다이아몬드 연마 입자 응집 정도가 용융 석영의 마찰 마모 성능에 미치는 영향을 체계적으로 연구하였다. 또한 광학 현미경, 백색광 간섭계 등 장비를 이용하여 용융 석영의 마모 메커니즘을 분석하였으며, 최종적으로 마찰학 실험 결과를 실제 자기유변 폴리싱 결과와 비교하였다. 실험 결과는 나노 다이아몬드 연마 입자의 응집 정도가 클수록 용융 석영 표면의 재료 제거율이 커지고 마모 영역의 아래층 손상이 심해짐을 보여준다. 하중이 0.5 N일 때, 응집된 연마 입자 작용 하에서 용융 석영의 마모는 주로 점착 마모로 나타나며, 경미한 연마 입자 마모가 동반되고 용융 석영의 아래층에는 명확한 손상이 없다. 하중이 0.5 N에서 4 N으로 증가할 때, 용융 석영의 마모 형태는 주로 연마 입자 마모로 변하며 표면과 아래층에 많은 손상이 발생한다. 동일한 응집 정도의 폴리싱 액을 사용한 용융 석영 마모 및 자기유변 폴리싱 실험에서 용융 석영의 자기유변 폴리싱 과정 중 재료 제거율은 마모 실험의 재료 제거율 변화 추세와 일치하여 마찰 마모 실험을 통해 실제 자기유변 폴리싱에서의 재료 제거율을 어느 정도 예측할 수 있음을 나타낸다.

자기유변 폴리싱;연마 입자 응집;나노 다이아몬드;용융 석영;마모 성능