내부 연결된 벌집 구조는 조직 공학, 세포 배양, 유체 확산, 재료 열 확산 및 표면 과학 등 여러 분야에서 매우 중요한 응용을 가지고 있습니다. 이방성 및 등방성 에칭을 결합한 2단계 에칭 방법을 사용하여, 에칭 매개변수(가스 유량, 방출 주기, 에칭 전력, 내부 압력, 실리콘 재료 에칭 온도)를 제어하여 약 10 mm² 영역에서 2.2×10⁵~9.5×10⁵ 범위 내의 서로 다른 간격을 가진 실리콘 내부 연결 벌집 구조를 얻었습니다. 유도 결합 플라즈마(ICP)에서 사용하는 Bosch 에칭법은 이방성 실리콘 에칭에 사용되며, 플루오르 탄소 플라즈마 아래 표면에 폴리머를 증착함으로써 측벽 에칭 효율을 낮춰 구조가 높은 종횡비의 수직 측벽을 갖도록 합니다. 보호 가스 플라즈마를 적용하지 않는 조건에서 ICP는 가스 등방성 에칭 장비 역할을 할 수 있으며, ICP 기반 등방성 에칭 능력은 이방성 에칭에 비해 높은 실리콘 에칭 속도, 우수한 제어성 및 높은 에칭 선택성을 가지고 있는 장점이 있습니다. 이 방법은 실리콘 기반 재료의 내부 연결 벌집 구조 제작을 실현할 수 있으며, 벌집 구조의 간격을 정밀하게 제어할 수 있고, 균일성이 우수하며, 빠른 대면적 제작이 가능하며, 공정이 간단하고 제작 주기가 짧은 장점이 있습니다.

등방성 에칭;벌집 구조;내부 연결;에칭 속도