편광 제거 분광판은 우주 광학에서 중요한 분광 부품입니다. 780 nm 대역 레이저가 높은 분광비 조건에서 안정적으로 분광 출력되도록 하기 위해, 고분광비 편광 제거 분광판을 설계하고 제작하였습니다. TFCalc 소프트웨어를 사용하여 양면 편광 제거 분광막 계를 시뮬레이션 및 설계하였으며, 이온 빔 보조 전자빔 열증착 기술로 편광 제거 분광판 샘플을 제작하였습니다. 이후 투과 전자 현미경과 분광광도계를 이용해 제작된 샘플을 측정·특성화하여 분광판의 실제 박막 구조 및 투과 스펙트럼을 얻었습니다. 스펙트럼 결과는 해당 분광판의 투과율이 약 98%에 이르고, s 편광광과 p 편광광의 투과율 편차가 0.3% 미만임을 보여줍니다. 마지막으로, 테스트 광로를 구축하여 분광판의 편광 방향 변화, 파장 변화 및 장시간 안정성 등의 시험을 진행하였습니다. 실험 결과, 목표 대역 내 투과율이 약 98%에 가깝고, 편광 방향이 크게 변화할 때 투과율 편차가 0.2% 미만이며, 파장이 772~792 nm 범위 내에서 변화할 때 투과율 변동이 0.12% 미만임을 확인했습니다; 10시간 장시간 결과에서 평균 시간이 100초일 때 분광비와 투과율의 앨런 분산은 각각 <inline-formula><alternatives><math xmlns:mml="http://www.w3.org/1998/Math/MathML" id="M1"><mn mathvariant="normal">1.41</mn><mo>×</mo><msup><mrow><mn mathvariant="normal">10</mn></mrow><mrow><mo>-</mo><mn mathvariant="normal">3</mn></mrow></msup></math><graphic specific-use="big" xmlns:xlink="http://www.w3.org/1999/xlink" xlink:href="alternativeImage/4F7728AE-98D4-47bd-BB89-D71F759C5708-M001.jpg"/></graphic><graphic specific-use="small" xmlns:xlink="http://www.w3.org/1999/xlink" xlink:href="alternativeImage/4F7728AE-98D4-47bd-BB89-D71F759C5708-M001c.jpg"/></graphic></alternatives></inline-formula> 및 <inline-formula><alternatives><math xmlns:mml="http://www.w3.org/1998/Math/MathML" id="M2"><mn mathvariant="normal">4.12</mn><mo>×</mo><msup><mrow><mn mathvariant="normal">10</mn></mrow><mrow><mo>-</mo><mn mathvariant="normal">5</mn></mrow></msup></math><graphic specific-use="big" xmlns:xlink="http://www.w3.org/1999/xlink" xlink:href="alternativeImage/4F7728AE-98D4-47bd-BB89-D71F759C5708-M002.jpg"/></graphic><graphic specific-use="small" xmlns:xlink="http://www.w3.org/1999/xlink" xlink:href="alternativeImage/4F7728AE-98D4-47bd-BB89-D71F759C5708-M002c.jpg"/></graphic></alternatives></inline-formula>였습니다. 제안된 편광 제거 분광판은 우수한 편광 제거 성능을 가지며, 광학 테스트 계측 및 양자 감지 탐지 등 정밀 측정 분야에 바로 적용할 수 있습니다.

편광 제거; 분광판; 박막 설계; 고분광비