자기유변학적 연마는 제거 효율이 안정적이고 아랫면 손상이 없는 초정밀 가공 공정이다. 그러나 연마 과정에서 자기유변액의 수분 손실은 연마 도구의 특성을 변경하여 제거 함수의 안정성에 영향을 준다. 기존 수분 제어 전략은 자기유변액 순환 시스템의 큰 지연 시간과 시변 교란의 영향을 받아 수분 함량에 주기적인 변동을 일으키며, 제거 함수가 주기적으로 변하여 가공 품질과 정밀도에 영향을 미친다. 본 연구에서는 자기유변액 순환 시스템의 전달 함수 모델을 구축하고 시스템 특성 분석을 수행하였으며, 이를 바탕으로 전 형식 동적 선형화 기반의 무모델 적응 제어 알고리즘을 설계하였다. 이 알고리즘은 비선형 시스템의 파라미터 적응 제어를 실현할 수 있으며, 시변 교란과 지연으로 인한 수분 변동을 효과적으로 억제하여 연마 과정 중 수분 함량의 안정적 제어를 위한 간단하고 효과적이며 적용성이 우수한 제어 전략을 제공한다. 실험 결과 FFDL-MFAC 제어 알고리즘 적용 시 자기유변액 수분 변동의 피크-밸리 값(Peak-valley Value, PV)은 0.06%에 불과하며, PID 사용 대비 40% 감소하였고, 절대오차 적분값(Integral value of Absolute Error, IAE)은 58.1% 감소하였다. 이는 연마 과정 중 자기유변액 수분 함량의 안정성을 효과적으로 향상시켰다.

자기유변 연마; 수분 함량 제어; 시스템 모델링; 파라미터 식별; 무모델 적응