마이크로 어레이 셔터는 다중 전자빔 노출 시스템의 핵심 부품으로, 다중 전자빔의 켜기/끄기를 제어하여 복잡한 패턴의 빠른 노출을 실현합니다. 3×3 마이크로 어레이 셔터를 설계 및 제작하였으며, 다중 전자빔 편향 실험 연구를 진행하였습니다. 어레이 셔터 구조를 최적화하였고 MEMS 가공 공정을 기반으로 어레이 셔터를 성공적으로 제작하였습니다. 어레이 셔터의 제어 요구사항에 맞춰 개별 제어가 가능한 어레이 셔터 컨트롤러를 설계하였습니다. 컨트롤러를 어레이 셔터에 연결하여 컨트롤러의 편향 속도와 기능 완전성을 검증하였습니다. 마지막으로 다중 전자빔 테스트 플랫폼에서 어레이 셔터 편향 실험을 수행하여 누화가 전자빔 편향에 미치는 영향을 연구하였습니다. 실험 결과, 어레이 셔터 컨트롤러의 편향 속도가 43.5 MHz에 도달하여 설계 값인 10 MHz보다 높았으며; 어레이 셔터가 개별적으로 전자빔의 켜기와 끄기를 성공적으로 구현하였고, 셔터의 편향 거리는 25~30 μm 범위로, 계산 값인 43.29 μm보다 작았으며; 누화 정도는 모두 3% 미만이었습니다. 해당 어레이 셔터는 이미 다중 전자빔 켜기/끄기 제어 기능을 갖추었으나, 편향 정밀도, 설계 및 가공 공정 등에서 추가적인 최적화와 개선이 필요합니다.

전자빔 노출;어레이 셔터;다중 전자빔;누화;편향 속도