1차원 아분광격자는 작고 통합이 용이하며 높은 소광비를 가지는 편광 선택 소자로서 원격 탐지, 재료 응력 탐지 및 산란 저항 이미징 등 분야에서 풍부한 응용 전망을 가지고 있다. 본 논문에서는 높은 소광비와 높은 투과율을 갖는 1차원 아분광격자 편광 선택 소자를 설계하고 효율적인 가공 방식을 실현하였다. 먼저, 등효매질 이론과 유한차분 시간영역법을 바탕으로 격자를 설계·시뮬레이션 하였으며, 홀로그래픽 간섭 가공에 적합한 이중 금속층 구조의 1차원 아분광격자 장치를 설계하여 듀티비 안정성과 패턴 이전 용이성의 장점을 확보하였다. 이후 홀로그래픽 레이저 광조각 시스템을 구축하여 주기 800 nm, 크기 30 mm × 30 mm의 1차원 격자 가공을 완료하였으며, 기존 방식과 비교하여 가공 효율, 비용 및 주기 조절성에서 큰 이점을 가졌다. 실리콘 기판 식각과 금속 박막 증착을 통해 포토레지스트 패턴을 금속 격자로 성공적으로 이전하였다. 제작된 격자는 3~15 μm 적외선 영역에서 평균 45% 이상의 투과율과 최대 30 dB의 소광비를 나타낸다.

홀로그래픽 광조각; 이중 금속 격자; 아분광 격자; 편광 선택