융합 석영 마이크로 반구 공진 자이로스코프는 구조가 간단하고 간섭 저항력이 강하며 정밀도가 높다는 장점이 있어 가장 발전 가능성이 높은 마이크로 진동형 자이로스코프 중 하나입니다. 융합 석영 마이크로 반구 공진기는 마이크로 반구 자이로스코프의 핵심 부품으로, 제작 과정에서 레이저 방출을 이용해야 하며, 방출 계면의 표면 품질이 마이크로 반구 공진기의 성능에 중요한 영향을 미치는 요소입니다. 빠르고 높은 표면 품질의 방출 방법을 개발하는 것은 고성능 석영 마이크로 반구 공진기 제작에 필요한 공정 기술입니다. 융합 석영 아래에 실리콘 반사 타겟을 배치하고 레이저를 융합 석영 공진기 하부 표면에 집중시켜 펨토초 레이저가 융합 석영 소재 내부에서 광장 강도를 강화하여 융합 석영 마이크로 반구 공진기의 방출 속도와 표면 품질을 향상시켰습니다. 융합 석영 소재 내 레이저 강도의 단순화된 수학 모델과 FDTD 시뮬레이션을 구축하여 펨토초 레이저 가공 과정 중 레이저 에너지장의 분포를 분석하고 최적의 가공 공정 매개변수를 확정하였습니다. 실험 결과 단일 펄스 에너지가 2.2 μJ이고 방출 속도가 0.2~0.5 mm/s일 때 두께 300μm의 석영 판을 방출하여 34.31~35.16μm 범위의 방출 폭을 얻었으며, 방출 표면 거칠기가 400nm 미만이었고, 방출 폭이 집중된 상부 표면보다 약 236% 향상되었습니다. 이는 마이크로 반구 공진기 방출 품질을 효과적으로 향상시켜 고품질 융합 석영 공진기 제작에 기술적 지원을 제공합니다.

펨토초 레이저 방출; 융합 석영; 반사 타겟; FDTD 시뮬레이션