고품질 홀로그램 격자를 제작하고 분할 진폭 노출 시스템의 줄무늬 안정성을 향상시키기 위해, 다양한 빔 분할 장치가 줄무늬 안정성에 미치는 영향을 분석하고 홀로그램 격자 간섭 줄무늬의 위상 잠금 시스템을 설계 및 구현하였다. 간섭 노출 원리와 줄무늬 이동이 노출 대비에 미치는 영향을 바탕으로, 서로 다른 분광 장치 사용 시 광원의 지향성 요구 조건을 분석하였고 기준 격자 모아레 줄무늬를 기반으로 간섭 줄무늬 변화 감지 방법을 제안하였다. 적절한 탐지기와 구동기를 선택하여 STM32 마이크로컨트롤러와 PID 알고리즘을 결합한 줄무늬 위상 폐쇄 루프 잠금 시스템을 설계하였다. 실험 결과, 해당 잠금 시스템은 1 kHz 제어 주파수를 달성할 수 있으며 0~3 Hz 범위의 저주파 이동에 대해 우수한 억제 효과를 보였고, 잠금 후 줄무늬 이동의 RMS 값은 <inline-formula><alternatives><math xmlns:mml="http://www.w3.org/1998/Math/MathML" id="M1"><mn mathvariant="normal">0.004</mn><mtext> </mtext><mn mathvariant="normal">7</mn><mi>λ</mi></math><graphic specific-use="big" xmlns:xlink="http://www.w3.org/1999/xlink" xlink:href="alternativeImage/FA216E32-63CF-4c8d-AAD6-BFAB0B72292A-M001.jpg"?></graphic><graphic specific-use="small" xmlns:xlink="http://www.w3.org/1999/xlink" xlink:href="alternativeImage/FA216E32-63CF-4c8d-AAD6-BFAB0B72292A-M001c.jpg"?></graphic></alternatives></inline-formula>이었다. 광원 지향 안정성이 좋지 않을 때, 노출 시스템에서 격자 분광과 단일 지점 위상 잠금 방식을 사용하면 대형 격자 제작 시 간섭 줄무늬 안정성 요구를 충족할 수 있다.

홀로그램 격자;위상 잠금;모아레 줄무늬;폐쇄 루프 제어