파브리-페로 표준기 렌즈 가공 과정에서 면형 오차를 결정론적으로 제어하기 위해 본 논문에서는 렌즈 면형 오차와 파브리-페로 표준기의 성능 간의 관계를 심도 있게 연구하였다. 면형 오차가 표준기의 투과 스펙트럼에 미치는 영향을 이론적으로 모델링하여, 면형 오차가 표준기의 주요 성능 지표에 미치는 영향을 정량적으로 분석하고 공정 및 면형 제어 매개변수를 최적화하였다. 연구 결과, 면형 오차의 평균값과 표준기 투과 스펙트럼 피크 중심 파장 사이에 양호한 선형 관계가 나타났으며, 중심 파장 변위에 대한 감도 계수는 이론적으로 1.65 pm/nm임을 도출하였다. 면형 오차의 피크-밸리 값은 표준기 투과 스펙트럼의 대역폭 확장 및 피크 투과율 감쇠에 영향을 미치며, 피크-밸리 값이 λ/40(15.8 nm) 이하일 때 대역폭과 피크 투과율이 점진적으로 수렴하였다. 이론 모델 검증을 위해 피코미터 급 정밀도의 표준기 투과 스펙트럼 시험 시스템을 구축하였으며, 투광 개구를 통한 정성적 검증과 면형 오차 시험의 정량적 분석을 통해 중심 부 면형 균일성이 가장자리 부보다 표준기 성능에 미치는 영향이 더 크다는 것을 명확히 하고, 성능 지표를 만족하는 면형 오차 제어 임계값을 설정하였으며, 이에 기반한 표준기 제작 실험을 수행하였다. 실험 결과, 중심 부 피크-밸리 값을 10 nm 이내로 제어할 경우, 직경 30 mm 표준기의 피크 투과율이 98.63%에 달하며 중심 파장 532.199 nm에서 32.8 pm 대역폭의 협대역 필터링을 실현하여 이론 설계 한계에 근접함을 확인하였다. 본 논문의 결론은 고투과율, 협대역폭, 피코미터 급 중심 파장 안정성을 갖는 고정밀 표준기 제조 및 가공에 중요한 응용 가치를 가진다.

면형 오차;표준기;피크-밸리 값;파브리-페로