파브리-페로 표준기 렌즈 가공 공정 중 면형 오차의 결정론적 제어를 위해, 본 논문은 렌즈 면형 오차와 파브리 표준기 성능 간의 관계를 심도 있게 연구하였다. 면형 오차가 표준기의 투과 스펙트럼에 미치는 영향을 이론 모델로 구축하여, 면형 오차가 표준기 주요 성능 지표에 미치는 영향을 정량 분석하고 공정 및 면형 제어 파라미터를 최적화하였다. 연구 결과, 면형 오차 평균값과 표준기 투과 스펙트럼 피크 중심 파장 간에 우수한 선형 관계가 있음을 발견하였으며, 중심 파장 편이의 민감도 계수는 1.65 pm/nm로 이론적으로 유도되었다. 면형 오차의 피크-밸리 값은 표준기 투과 스펙트럼 선폭 확대 및 피크 투과율 감소에 영향을 미치며, 피크-밸리 값이 λ/40(15.8 nm) 미만일 때 밴드폭과 피크 투과율이 점진적으로 수렴하였다. 이론 모델 검증을 위해 피코미터 수준 정밀도의 표준기 투과 스펙트럼 테스트 실험 시스템을 구축하였고, 투광 개구 테스트의 정성 검증 및 면형 오차 테스트의 정량 분석을 통해 중앙 렌즈 면형 균일성이 표준기 성능에 미치는 영향이 가장자리 렌즈보다 높음을 명확히 하였다. 성능 지표를 만족하는 면형 오차 제어 임계값을 설정하고, 이를 바탕으로 표준기 개발 실험을 진행하였다. 실험 결과 중앙 렌즈 피크-밸리 값을 10 nm 이내로 제어할 경우 직경 30 mm 표준기의 피크 투과율이 98.63%에 도달하고, 중심 파장 532.199 nm에서 32.8 pm의 협대역 필터링을 실현하여 이론 설계 한계에 근접함을 보였다. 본 연구 결과는 높은 투과율, 좁은 대역폭, 중심 파장 피코미터 수준 안정성의 고정밀 표준기 생산 가공에 중요한 응용 가치를 가진다.

면형 오차;표준기;피크-밸리 값;파브리-페로