摘要
극자외 광학 요소의 초정밀 제조에 초점을 맞추어 광학 요소 소재 특성 및 제조 공정으로 인한 표면 오차 형성 메커니즘을 소개하고 다양한 공간 규모의 오차 감지 기술적 도전과 연구 동향을 조명하였다. 저주파 형상 오차 감지를 위해 절대 검출 기술과 서브 아파테 검출 기술에 중점을 두었다. 표면 거칠기 검출을 위해 화이트 라이트 간섭계측 기술, 원자력 현미경 기술과 광검량변측 기술의 연구 동향을 분석하였다. 광학 요소의 표면/하부 표면 결함의 다중모달 표현 요구에 대한 요구량 차별과 검출방법에 대한 각각 전하점과 폐점을 비교함으로써 전자 현미경, 간섭, 프로브, 산포검출 등 여러 검출방법의 장단점을 비교하였다. 마지막으로 현재 기술적 한계와 고성능 광학 요소 요구를 고려하여 광학 요소 감지 기술의 개발 추이를 제안하였다. 본 제안은 인공지능, 다중 물리학 상호 결합 표현과 현장 관측을 통해 핵심 장비의 국산화를 위한 기술 지원을 제공할 것으로 기대된다.
关键词
첨단 광학 제조; 광학 측정; 형상 검출; 거칠기 검출; 결함 검출