고정밀 광학 표면에 대한 이온빔의 결정적 가공을 실현하고, 가공 과정에서 이온빔 제거 함수의 정밀한 제어를 강화하기 위해 세밀한 빔 지름 이온빔의 가변 제거 함수 보상 모델을 구축하였다. 가공 과정에서 세밀한 빔 지름 가변 제거 함수 문제에 대한 연구, 분석, 보상 및 최적화를 실현하였다. 실제 가공 시 제거 함수의 불안정성 문제에 대해 이론적 분석을 수행하고, 이론적 유도를 통해 제거 함수에 영향을 미치는 직접적인 요인과 간접적인 요인을 탐구하였다. 직접 요인에는 열 축적 및 에너지 분배 문제가 포함되며, 간접 요인에는 체류 시간 및 이송 속도가 포함된다. 동적 제거 함수 실험을 통해 가공 과정에서 체류 시간이 제거 속도에 미치는 영향을 검증하였으며, 서로 다른 크기의 두 가지 빔 지름 실험에서 이 규칙의 반복성을 증명하였다. 마지막으로, 이송 속도가 제거 속도에 미치는 영향 규칙에 기반한 보상 방안 및 가공 권장 사항을 제시하였다. 실험 결과에 따르면 체류 시간/이송 속도 조절을 통해 세밀한 빔 지름이 고정밀 광학 표면에서의 가공 수렴도를 효과적으로 향상시킬 수 있다. 아원자 광학 가공의 실험 검증에서 100 mm ULE 평면 반사경에서 0.332 nm RMS의 가공 결과를 달성하여 실제 적용에서 세밀한 빔 지름 이온빔의 안정성, 신뢰성, 높은 정밀도 및 결정성을 충족하였다.

광학 가공;이온빔 가공;세밀한 빔 지름;가변 제거 함수;체류 시간;비선형 보상