A uniformidade da camada de resist após a aplicação por centrifugação no processo de exposição tem grande influência na largura da linha de exposição. Para obter a uniformidade da espessura da película formada pelo colóide de resist sobre um substrato côncavo sob alta rotação, foi desenvolvido um modelo hidrodinâmico de microelementos de fluido não newtoniano em rotação centrífuga sobre substrato côncavo. Com base nas condições de contorno correspondentes, na equação constitutiva do fluido não newtoniano e na equação da continuidade, foi derivada a relação entre as propriedades do fluido, a forma da superfície curva, a velocidade de rotação, o tempo e a espessura final. As propriedades do fluido do resist 950 K PMMA C 2% foram calibradas com um reômetro; experimentos de revestimento por centrifugação foram realizados no substrato côncavo com a velocidade de rotação como única variável; a espessura do colóide após centrifugação foi medida em função do raio vetor usando um elipsômetro espectral e comparada com a teoria. Os resultados experimentais mostraram que: à velocidade de rotação de 2.000 rpm, a espessura teórica é de 267 nm, a espessura medida é de 230 nm, com uma taxa de desvio de 13,86%; à velocidade de 3.000 rpm, a espessura teórica é de 178 nm, a espessura medida é de 172 nm, com uma taxa de desvio de 3,37%. Considerando que o processo de pré-secagem após o revestimento reduz ainda mais a espessura da camada, o desvio está dentro da faixa normal. O modelo matemático estabelecido neste artigo apresenta boa capacidade preditiva e pode fornecer orientação teórica para a uniformidade do colóide após rotação centrífuga.

Exposição por feixe de elétrons;revestimento por centrifugação;fluido não newtoniano;espessura da camada;superfície curva