Para resolver o problema da força de ligação na interface entre filmes tipo diamante (DLC) e substratos metálicos, este estudo utilizou a tecnologia de deposição química em fase vapor assistida por plasma de corrente contínua (DC-PECVD) para depositar filmes compostos de DLC em substratos de aço 45 sob condições de polarização negativa diferentes e mesmo tempo de deposição. A morfologia dos filmes foi observada por microscopia eletrônica de varredura e microscopia de força atômica; a composição dos filmes foi analisada por espectroscopia Raman; a força de adesão do revestimento foi medida por equipamento automático de arranhamento. Os resultados mostraram que: com a variação da polarização de -600 V a -1200 V, a rugosidade da superfície dos filmes compostos de DLC aumentou, a espessura total dos filmes aumentou, a espessura máxima atingiu 16,3 μm; o teor de hidrogênio diminuiu, o teor relativo da fase grafítica aumentou, e a diferença nas composições estruturais entre a camada de transição DLC e a camada superior DLC diminuiu. Sob condições de deposição de tempo constante, com o aumento da polarização negativa, o estresse residual nos filmes compostos de DLC aumentou, a força de ligação diminuiu, sendo a força máxima cerca de 54,5 N. Os filmes DLC da camada superior depositados com polarização de -600 V a -800 V apresentaram melhor desempenho geral.

DC-PECVD;polarização negativa;H-DLC;ajuste multifonte;força de ligação