Estudo do mecanismo de dano de filmes a laser de nanossegundos e sua aplicação

CHENG Xinbin ,  

JIAO Hongfei ,  

ZHANG Jinlong ,  

NIU Xinshang ,  

MA Bin ,  

SHEN Zhenxiang ,  

WANG Zhanshan ,  

摘要

Com base na demanda do nosso país para a construção de dispositivos de laser de alta potência e tarefas de engenharia para componentes de filmes finos de laser de alta potência, e com base na compreensão dos mecanismos de dano dos filmes, a Universidade de Tongji propôs a ideia de controle quantitativo em todo o processo para a fabricação de filmes a laser com defeitos controlados. A Universidade de Tongji utilizou microesferas artificiais com estrutura e propriedades controláveis para fabricar defeitos artificiais quantitativos, estudando sistematicamente os efeitos do processamento do substrato, limpeza ultrassônica, simulação e controle do campo elétrico, seleção de materiais e processos de revestimento, pós-tratamento, pré-tratamento a laser, transferência e armazenamento sobre as características e padrões de dano a laser dos componentes de filmes. A partir da morfologia e padrões de dano, confirmou-se a validade do modelo teórico de reforço do campo elétrico para defeitos nodulares, aprofundando o conhecimento dos pesquisadores sobre o mecanismo de dano dos defeitos nodulares, propondo novos caminhos para melhorar a performance de resistência a danos dos filmes, criando novos materiais e alcançando a fabricação multifuncional de filmes a laser de alta potência que conciliam estabilidade ambiental, características espectrais e propriedades de dano, apoiando fortemente a construção de dispositivos de laser de alta potência no nosso país e o avanço da tecnologia laser.

关键词

filmes a laser; dano a laser; nódulo; defeitos artificiais; reforço do campo elétrico

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