A nanotecnologia metrológica é uma técnica de medição precisa na escala nanométrica, sendo a base para tecnologias avançadas de fabricação nanométrica. A rastreabilidade é uma questão fundamental na nanotecnologia metrológica, e o desenvolvimento de materiais padrão nanométricos rastreáveis é um passo crucial para realizar a transferência de rastreabilidade em medições nanométricas, assegurando a uniformidade e precisão na medição de valores geométricos nanométricos. Para atender aos requisitos de transferência plana de valores na nanotecnologia metrológica, com base na frequência de transição do cromo, utilizaram-se tecnologias de litografia atômica e litografia por interferência de raios X suaves para preparar três tipos de materiais padrão de rede auto-rastreáveis: 1D 212,8 nm, 2D 212,8 nm, 1D 106,4 nm; com base na tecnologia de deposição de filmes múltiplos para desenvolver a estrutura de largura de nanofios de silício, explorou-se um método de medição auto-rastreável baseado na constante de rede do silício. No campo de aplicação, foram realizados estudos de calibração de redes auto-rastreáveis para microscópios de sonda de varredura, microscópios eletrônicos de varredura e outros instrumentos de medição de alta precisão. Os resultados da pesquisa indicam que materiais padrão auto-rastreáveis e seus métodos de medição encurtam a cadeia de rastreabilidade da medição de comprimento nanométrico em processos de equipamentos e tecnologias de fabricação de precisão, sendo um forte suporte para a fabricação nanométrica avançada e a tecnologia da informação de nova geração.

nanotecnologia; metrologia nanométrica; materiais padrão auto-rastreáveis; litografia atômica; litografia por interferência de raios X suaves; tecnologia de deposição de filmes múltiplos