Sistemas ópticos de incidência normal em extremo ultravioleta são amplamente utilizados em imageamento microscópico de estruturas biológicas, diagnóstico de plasma, observação da física solar e litografia em extremo ultravioleta, sendo de grande importância a realização de pesquisas aprofundadas. Este artigo apresenta os avanços mais recentes do Instituto de Engenharia Óptica de Precisão da Universidade Tongji em sistemas ópticos de incidência normal em extremo ultravioleta, listando várias séries de sistemas aplicados em diferentes cenários, como diagnóstico de elétrons superaquecidos, imagem micro/nano, danos por irradiação em extremo ultravioleta e diagnóstico de plasma por compressão Z. Esses sistemas alcançam desempenho excelente em suas aplicações respectivas: resolução espacial micrométrica em campo de visão milimétrico; resolução espacial ultrarrápida submicrométrica em campo de visão de dezenas de micrômetros; irradiação em extremo ultravioleta de densidade de energia ultralonga sob grande abertura numérica e diagnóstico espaço-temporal multicanal em múltiplos pontos energéticos. Os avanços na pesquisa do sistema óptico de incidência normal em extremo ultravioleta fornecem forte suporte para a autonomia e controle independente dos equipamentos de diagnóstico de plasma na China e reserva tecnológica para equipamentos de fabricação de alta tecnologia.

extremo ultravioleta; multicamadas; sistema Schwarzschild; diagnóstico de plasma; sistema de imagem; sistema de focalização