O ultravioleta extremo e os raios X fornecem meios de observação de alta precisão para o conhecimento da matéria microscópica e a exploração do espaço macroscópico, mas a realização desse tipo de observação requer o suporte de um grande número de elementos refletivos ópticos de alta precisão. Como o ultravioleta extremo e os raios X tendem a se dispersar mais facilmente nas superfícies ópticas, os requisitos de precisão e a tecnologia de fabricação dos substratos dos espelhos ópticos diferem claramente dos componentes de onda longa. Nos últimos anos, o Instituto de Tecnologia de Engenharia Óptica de Precisão da Universidade Tongji estabeleceu uma plataforma de processamento e detecção ultraprécisos de substratos para elementos refletivos de ultravioleta extremo e raios X, desenvolveu a tecnologia de conformação por feixe iônico para superfícies asféricas ultramacias, propôs um método de detecção absoluta rotacional off-axis aleatório baseado em polinômios de Zernike, formou uma tecnologia completa de fabricação de alta precisão para substratos de espelhos refletivos para ultravioleta extremo e raios X e aplicou com sucesso essa tecnologia em dispositivos científicos ópticos de ondas curtas nacionais e internacionais. Este artigo revisa os avanços do nosso grupo de pesquisa no campo da fabricação de espelhos refletivos para ultravioleta extremo e raios X.

processamento ultrapréciso;ultravioleta extremo;raios X;substratos de espelhos refletivos;elementos asféricos;detecção absoluta