Com a aplicação de fontes de luz como lasers de elétrons livres ultracurtos e ultrapotentes, a resistência à radiação de espelhos de filmes finos nas faixas de ultravioleta extremo e raios X tem recebido muita atenção. Este artigo apresenta o dispositivo de danos por irradiação ultravioleta extremo em nanossegundos montado no laboratório IPOE, e realizou testes de danos por irradiação em espelhos de filmes finos comumente usados em lasers de elétrons livres ultravioleta extremo-raios X, incluindo espelhos de filme fino B₄C, espelhos monocamadas metálicas de Au e Ru, espelhos de filme duplo B₄C/Ru e espelhos multicamadas Mo/Si para fotolitografia ultravioleta extremo. Foram obtidas as propriedades de resistência a danos de espelhos de filmes finos de diferentes materiais e estruturas, revelando por simulação teórica o papel dos mecanismos de danos, como fusão térmica, estresse térmico e reações de difusão entre camadas.

ultravioleta extremo;espelhos de filmes finos;resistência a danos;mecanismos de danos