Para melhorar a força de ligação entre o filme CrAlN e o substrato, aumentando sua resistência ao desgaste. Utilizou-se a tecnologia de pulverização por arco catódico para depositar um filme CrAlN sobre um substrato de aço 45. Foram analisados os mecanismos de influência do campo magnético e da distância entre o alvo e o substrato no desempenho do filme CrAlN, avaliando os efeitos do campo magnético na espessura do filme, morfologia da superfície, força de ligação e resistência ao desgaste, comparando com filmes depositados sem campo magnético. Os resultados mostraram que a espessura do filme, a rugosidade da superfície, o tamanho e a quantidade de gotas depositadas diminuem com o aumento da distância alvo-substrato; em comparação com a amostra sem campo magnético, a amostra com campo magnético apresentou menor rugosidade de superfície, maior raio de curvatura e maior força de ligação. Na presença de campo magnético, a força de ligação na interface é cerca de 60 N, variando pouco com a distância alvo-substrato, enquanto que sem campo magnético essa força varia muito. Comparados sob as mesmas condições, a força de ligação aumentou entre 20% e 80%. O coeficiente de atrito e a taxa de desgaste do filme diminuem com o aumento da distância alvo-substrato; para a mesma distância, a amostra com campo magnético apresentou menor coeficiente de atrito e taxa de desgaste. Quando existe campo magnético e a distância alvo-substrato está entre 160 e 180 mm, o desempenho do filme CrAlN depositado é ótimo. Este estudo fornece uma referência importante para a preparação de filmes CrAlN com desempenho superior.

campo magnético;distância alvo-substrato;gotículas;força de ligação;taxa de desgaste