Para melhorar a qualidade da imagem das lentes ópticas e eliminar o impacto da luz espalhada, foi projetado um revestimento antirreflexo com vidro K9 como base, apresentando refletância média inferior a 0,1% na faixa de luz visível. Utilizou-se o método de deposição assistida por feixe de elétrons e íons. Devido à alta sensibilidade das camadas finas e às grandes variações espectrais, foi estabelecido um modelo matemático estável para controlar a espessura do filme, reduzindo o erro de espessura e aumentando a precisão e estabilidade da deposição. Foram realizados testes rotativos no revestimento antirreflexo, otimizando os parâmetros do processo, com ênfase no aumento da dureza e resistência à fervura. Os resultados experimentais mostraram que o revestimento final apresentou reflectância média de aproximadamente 0,044% na faixa de 420~680 nm, com refletância máxima de 0,0712%, superando os problemas de desempenho mecânico e estabilidade química dos revestimentos antirreflexo com camada externa de MgF₂, atendendo aos requisitos de baixa perda, estabilidade confiável, alta resistência e fabricação repetível para aplicações de engenharia.

filmes ópticos; deposição por evaporação assistida por feixe de elétrons; controle de erros; propriedades mecânicas; luz visível; refletância