O obturador de matriz micro é um componente chave nos sistemas de exposição por feixe eletrônico multifeixe, utilizado para controlar a ativação/desativação de múltiplos feixes eletrônicos, permitindo uma exposição rápida de padrões complexos. Foi projetado e fabricado um obturador de matriz micro 3×3, e estudos experimentais de deflexão multifeixe foram conduzidos. A estrutura do obturador de matriz foi otimizada e fabricada com sucesso com base no processo de fabricação MEMS. Atendendo aos requisitos de controle do obturador de matriz, foi projetado um controlador que permite controle individual do obturador. O controlador foi conectado ao obturador para verificar a velocidade de deflexão e a integridade funcional. Por fim, foram realizados experimentos de deflexão na plataforma de teste multifeixe para estudar o efeito do diafonia na deflexão do feixe eletrônico. Os resultados experimentais mostraram que a velocidade de deflexão do controlador do obturador de matriz atinge 43,5 MHz, superior ao valor projetado de 10 MHz; o obturador de matriz conseguiu controlar individualmente a ativação e desativação do feixe eletrônico, com distância de deflexão entre 25~30 μm, inferior ao valor calculado de 43,29 μm; o grau de diafonia foi inferior a 3%. Este obturador de matriz já possui função de controle de ativação/desativação de múltiplos feixes eletrônicos, mas ainda requer otimizações e melhorias adicionais em precisão de deflexão, design e processo de fabricação.

Exposição por feixe eletrônico;Obturador de matriz;Feixe eletrônico multifeixe;Diafonia;Velocidade de deflexão