O controle de exposição no sistema de imagens de captura rápida de wafers tem um impacto significativo na qualidade da imagem. Os algoritmos tradicionais de controle de exposição baseados na avaliação no domínio espacial são computacionalmente complexos e ignoram as diferenças nas características dos grãos, levando a exposições desiguais. Para isso, propõe-se um método de controle de exposição baseado na avaliação no domínio da frequência com segmentação da imagem. Este método utiliza um algoritmo de segmentação por dupla limiar em blocos para segmentar adaptativamente as regiões características da imagem dos grãos; combinado com um filtro passa-alta e o algoritmo da pirâmide gaussiana, extrai rapidamente informações de alta frequência no domínio da frequência e projeta uma função de avaliação ponderada por região para avaliação abrangente do efeito da exposição. Para realizar uma busca rápida dos melhores parâmetros de exposição dentro do tempo máximo de exposição, propõe-se um algoritmo de busca de passo variável baseado em árvore de decisão. Resultados experimentais comparativos mostram que este algoritmo de busca, garantindo precisão, aumentou o índice médio de qualidade da melhor imagem em 1,34% e reduziu o tempo de ajuste dos parâmetros de exposição em 61,3%, garantindo a qualidade da imagem durante o processo de captura rápida de wafers.

controle de exposição;análise no domínio da frequência;função de avaliação de imagem;busca de passo variável;árvore de decisão