Для детерминированного контроля отклонений формы поверхности линз при обработке стандартных эталонов Фабри-Перо в данной статье подробно изучается связь между отклонениями формы поверхности и характеристиками эталонов. Путем создания теоретической модели влияния отклонений формы на спектр пропускания эталона проводится количественный анализ влияния этих отклонений на основные показатели производительности эталона, что позволяет оптимизировать технологический процесс и параметры контроля формы. Исследование показало хорошую линейную зависимость среднего отклонения формы от центральной длины волны пика спектра пропускания эталона, теоретически выведен коэффициент чувствительности сдвига центра волны равный 1,65 пм/нм. Максимальное отклонение формы влияет на расширение полосы пропускания и ослабление пикового коэффициента пропускания. При максимальных отклонениях менее λ/40 (15,8 нм) ширина полосы и пиковый коэффициент пропускания постепенно сходятся к значениям. Для проверки теоретической модели создана экспериментальная система измерения спектра пропускания эталона с точностью до пикометров. Качественная проверка через апертуру прохождения света и количественный анализ отклонений формы показали, что равномерность формы центральной части влияет на характеристики эталона сильнее, чем краевая часть. Установлены пороговые значения контроля отклонений формы, удовлетворяющие требованиям по характеристикам, и проведена разработка эталона на их основе. Результаты эксперимента показали, что при контроле максимального отклонения центральной части в пределах 10 нм пиковый коэффициент пропускания эталона диаметром 30 мм достиг 98,63%, а при центральной длине волны 532,199 нм достигнута узкополосная фильтрация с шириной 32,8 пм, близкая к теоретическому пределу. Это заключение имеет важное практическое значение для производства высокоточных эталонов с высокой пропускной способностью, узкой полосой и стабильной центральной длиной волны на уровне пикометров.

отклонения формы;эталон;максимальные отклонения;Фабри-Перо