Reacción de la interfaz de la película de óxido de la muela afilada electrolíticamente en línea y mecanismo de formación de partículas compuestas

KUAI Jicai ,  

DUAN Yunqian ,  

ARDASHEV D V ,  

摘要

La película de óxido de la muela de afilado electroquímico en proceso (ELID) tiene un rendimiento de pulido auxiliar, que es de suma importancia para mejorar la calidad de la superficie de rectificado. Se analizaron la reacción de la interfaz de la película de óxido de la muela ELID y el mecanismo de formación de partículas abrasivas compuestas. Se utilizó difracción de rayos X micro (μ-XRD) y espectroscopía de fotoelectrones X (XPS) para probar la composición de las partículas compuestas y la zona compuesta, y se estudiaron la forma, el tamaño y la microestructura mediante microscopía electrónica de barrido (SEM) y microscopía electrónica de transmisión (TEM). La investigación muestra que las partículas compuestas en la película de óxido son una estructura compuesta de óxidos de α-Fe2O3, γ-Fe2O3, FeO(OH), Fe(OH)3 y otros, desde el centro hacia el borde. La película de óxido formada en la superficie de las partículas compuestas presenta una estructura en capas con forma de cebolla, con grietas en forma de caparazón de tortuga después de la deshidratación durante el rectificado. La forma de las partículas compuestas es aproximadamente ovalada, con un tamaño que varía de 11.5 μm a 50 μm. Varias partículas compuestas forman una estructura en red continua dentro de la película de óxido, lo que favorece el pulido auxiliar; las partículas compuestas eliminan efectivamente un ancho equivalente al tamaño de las partículas y al ancho de la capa α-Fe2O3.

关键词

Rectificado ELID; película de óxido; reacción de interfaz; partículas compuestas; α-Fe2O3

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