薄壳元件的磁控磁流变弹性体均匀抛光

薛勃; 朱力军; 苏星; 陈立; 周涛; 张建飞; 海阔; 黄文

doi:10.37188/OPE.20253303.0402

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薄壳元件的磁控磁流变弹性体均匀抛光

微纳技术与精密机械 | 更新时间：2025-03-26

- 薄壳元件的磁控磁流变弹性体均匀抛光
- Magnetorheological elastomer uniform polishing method for shell components
- “在超精密抛光领域，研究人员基于磁控磁流变弹性体原理，提出了一种均匀抛光方法，通过精确控制压力实现薄壳元件内表面均匀抛光，为薄壳元件表面处理提供了新方案。”
- 光学精密工程 2025年33卷第3期页码：402-415
- 作者机构：
  
  1.东北林业大学机电工程学院，黑龙江哈尔滨 150040
  2.四川省精密超精密加工工程技术研究中心，四川成都 610200
- 作者简介：
  
  [ "薛勃（1986-），男，黑龙江人，副教授，博士生导师，2018年于哈尔滨工业大学获得博士学位，主要从事微纳米加工及检测、能场辅助制造工艺等方面的研究。E-mail：xuebo@nefu.edu.cn" ]
  [ "朱力军（1998-），男，山东日照人，硕士研究生，主要从事磁场辅助抛光的研究。E-mail：zlj199803@163.com" ]
- 基金信息：
  
  “某装备光束系统关键器件超精密加工制造生产线”项目(J0017-2326-QT);国家重点研发计划资助项目(2022YFB3403402);国家自然科学基金资助项目(52105488)
- DOI：10.37188/OPE.20253303.0402
  中图分类号： TG664;TB381
- CSTR：32169.14.OPE.20253303.0402
- 收稿日期：2024-11-23，
  
  修回日期：2024-12-18，
  
  纸质出版日期：2025-02-10
- 稿件说明：
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薛勃,朱力军,苏星等.薄壳元件的磁控磁流变弹性体均匀抛光[J].光学精密工程,2025,33(03):402-415.

XUE Bo,ZHU Lijun,SU Xing,et al.Magnetorheological elastomer uniform polishing method for shell components[J].Optics and Precision Engineering,2025,33(03):402-415.
薛勃,朱力军,苏星等.薄壳元件的磁控磁流变弹性体均匀抛光[J].光学精密工程,2025,33(03):402-415. DOI： 10.37188/OPE.20253303.0402. CSTR： 32169.14.OPE.20253303.0402.

XUE Bo,ZHU Lijun,SU Xing,et al.Magnetorheological elastomer uniform polishing method for shell components[J].Optics and Precision Engineering,2025,33(03):402-415. DOI： 10.37188/OPE.20253303.0402. CSTR： 32169.14.OPE.20253303.0402.

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薄壳元件的磁控磁流变弹性体均匀抛光

Magnetorheological elastomer uniform polishing method for shell components

DOI：10.37188/OPE.20253303.0402