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单模硅波导与光栅耦合器在干法刻蚀中的系统性工艺偏差分析
微纳技术与精密机械 | 更新时间：2026-09-11

    • 单模硅波导与光栅耦合器在干法刻蚀中的系统性工艺偏差分析

    • Systematic process variation analysis of single-mode silicon waveguides and grating couplers during dry etching

    • 光学精密工程   2026年34卷第15期 页码：2378-2388

    • DOI：10.37188/OPE.20263415.2378    

      中图分类号： TN305.7;TH162+.1
    • CSTR：32169.14.OPE.20263415.2378    

    • 收稿：2026-06-05，

      修回：2026-06-26，

      纸质出版：2026-08-10

    移动端阅览

  • 刘永康,张怡梦,包晓清等.单模硅波导与光栅耦合器在干法刻蚀中的系统性工艺偏差分析[J].光学精密工程,2026,34(15):2378-2388.

    LIU Yongkang,ZHANG Yimeng,BAO Xiaoqing,et al.Systematic process variation analysis of single-mode silicon waveguides and grating couplers during dry etching[J].Optics and Precision Engineering,2026,34(15):2378-2388.

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相关作者

罗霄
郑立功
张学军

相关机构

中国科学院 长春光学精密机械与物理研究所 中国科学院光学系统先进制造技术重点实验室
中国科学院 研究生院
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