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基于近远场结合的微结构调制像差仿真
现代应用光学 | 更新时间:2025-04-17
    • 基于近远场结合的微结构调制像差仿真

    • Simulation of sample induced aberration for microstructure based on near-far fields

    • 在光学成像领域,专家提出了近远场结合的像差仿真方法,有效提高了仿真计算效率,为高深宽比微结构测量提供解决方案。
    • 光学精密工程   2025年33卷第5期 页码:716-727
    • DOI:10.37188/OPE.20253305.0716    

      中图分类号: O436.1;TH741
    • CSTR:32169.14.OPE.20253305.0716    
    • 收稿日期:2024-12-06

      修回日期:2025-01-18

      纸质出版日期:2025-03-10

    移动端阅览

  • 鲍帅,高志山,霍霄等.基于近远场结合的微结构调制像差仿真[J].光学精密工程,2025,33(05):716-727. DOI: 10.37188/OPE.20253305.0716. CSTR: 32169.14.OPE.20253305.0716.

    BAO Shuai,GAO Zhishan,HUO Xiao,et al.Simulation of sample induced aberration for microstructure based on near-far fields[J].Optics and Precision Engineering,2025,33(05):716-727. DOI: 10.37188/OPE.20253305.0716. CSTR: 32169.14.OPE.20253305.0716.

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