高Sc含量ScAlN薄膜的制备与表征

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高Sc含量ScAlN薄膜的制备与表征

现代应用光学 | 更新时间：2021-02-04

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- 高Sc含量ScAlN薄膜的制备与表征
- Preparation and characterization of ScAlN thin film with high scandium concentration
- 杨数强，王军强，张超，陈宇昕，尚正国
- 光学精密工程 2021年29卷第1期页码：21-27
- 作者机构：
  1.洛阳师范学院物理与电子信息学院，河南洛阳 471000
  2.北京卫星环境工程研究所，北京 100094
  3.重庆大学光电工程学院，重庆 400044
- 作者简介：
  杨数强（1979-），男，河南洛阳人，博士研究生，副教授，2009年于重庆理工大学获得硕士学位，主要从事信号获取与处理技术、机器视觉、物联网及自动控制方面的研究。E-mail：joanhn@163.com
  陈宇昕（1995-），男，河北邯郸人，硕士，2020年于重庆大学获得硕士学位，主要从事MEMS传感器、压电薄膜工艺等方面的研究。E-mail：20133013@cqu.edu.cn
  尚正国（1981-），男，河南洛阳人，博士，高级工程师，2014年于重庆大学获得博士学位，主要从事MEMS工艺、智能传感与系统方面的研究，尤其是对基于AlN、ScAlN薄膜的SAW、BAW、PMUT及能量收集器等器件方面的研究。E-mail：zhengry@cqu.edu.cn
- 基金信息：
  国家863高技术研究发展计划资助项目(2015AA042603);重庆市基础科学与前沿技术研究项目(cstc2017jcyjAX0237);国家重点研发计划资助项目(2018YFF01011200);国家自然科学基金青年基金资助项目(61804016);国家自然科学基金资助项目(51775070)
- DOI： 10.37188/OPE.20212901.0021
  中图分类号：
- 修回：2020-09-21 ，
- 稿件说明：
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