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光刻胶掩膜材料超光滑表面切削
光刻胶掩膜材料超光滑表面切削
Ultra-precision cutting of photoresist mask for ultra-smooth surface
- 光学精密工程 2023年31卷第13期 页码:1909-1921
DOI: 10.37188/OPE.20233113.1909
修回:2023-02-23
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相关作者
苏文献
李雪
顾溢
马英杰
徐红艳
莫德锋
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王振忠
相关机构
中国科学院 上海技术物理研究所 红外探测全国重点实验室
上海理工大学 能源与动力工程学院
厦门大学 九江研究院
厦门大学 物理科学与技术学院
厦门大学 航空航天学院


