您当前的位置：
首页 >
文章列表页 >
面向流场密度观测的聚焦纹影参数分析与光学设计
现代应用光学 | 更新时间：2026-09-11
上一篇|下一篇

    • 面向流场密度观测的聚焦纹影参数分析与光学设计

    • Focusing schlieren parameter analysis and optical design for flow field density observation

    • “聚焦纹影技术能够捕捉和测量单层流场区域的横向结构分布，在流场可视化和流场参数测量中扮演着重要角色，介绍了其在超高速流场观测领域的研究进展，研究团队建立了大口径聚焦纹影系统设计方法，为流场密度精细化观测提供了解决方案。”
    • 张战飞 ，郝歌扬 ，支冬 ，孔荣宗 ，胡守超 ，吴国俊 ，黄龙
    • 光学精密工程 2026年34卷第14期 页码：2125-2135

    • DOI： 10.37188/OPE.20263414.2125     

      中图分类号：
    • CSTR： 32169.14.OPE.20263414.2125     

    • 修回：2026-05-06 ，

    移动端阅览

  •  
  •  

  • AI导读

  • HTML全文

  • 图( 20 ) 表( 1 )

  • 参考文献

  • 出版信息

  • 数据统计

262

浏览量

174

下载量

0

CSCD

文章被引用时，请邮件提醒。
提交
工具集
  • BibTeX下载
  • Endnote下载
  • RefMan 下载
  • NoteExpress下载
  • NoteFirst下载

相关文章

新型流磁巨量转移用永磁偏置定位磁针
高频高精快刀伺服系统优化
径向包容式超声悬浮轴承结构优化
秸秆根茬还田通用机作业参数的优化设计
基于通道注意力增强网络的高效消色差超透镜逆向设计

相关作者

王子羲
牛萍娟
孙海威
焦飞腾
刘强
李江
许剑锋
杨辉

相关机构

北京石油化工学院 精密电磁装备与先进测量技术研究所
北京海炬科技有限公司
天津工业大学 分离膜与膜过程国家重点实验室
清华大学 摩擦学国家重点实验室
华中科技大学 机械科学与工程学院