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全息光栅制作中光栅掩模槽形形状随光刻胶特性曲线的演化规律
全息光栅制作中光栅掩模槽形形状随光刻胶特性曲线的演化规律
Groove profile evolution of grating masks for different photoresist response curves in fabrication of holographic gratings
- 光学精密工程 2012年20卷第11期 页码:2380-2388
DOI: 10.3788/OPE.20122011.2380
修回:2012-6-16
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相关机构
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中国科学院 长春光学精密机械与物理研究所
中国科学技术大学 精密机械与精密仪器系
信息材料与智能感知安徽省实验室
安徽大学 电子信息工程学院


