您当前的位置:
首页 >
文章列表页 >
后处理对HfO2薄膜光学特性及抗激光损伤阈值的影响
后处理对HfO2薄膜光学特性及抗激光损伤阈值的影响
Effects of posttreatments on optical properties and laser induced damage thresholds of HfO2 thin films
- 光学精密工程 2016年24卷第12期 页码:3000-3004
DOI: 10.3788/OPE.20162412.3000
录用:2016-11-30
移动端阅览
HTML全文
图( 5 ) 表( 0 )
参考文献
出版信息
数据统计
494
浏览量
559
下载量
0
CSCD
文章被引用时,请邮件提醒。
提交
工具集
- BibTeX下载
- Endnote下载
- RefMan 下载
- NoteExpress下载
- NoteFirst下载
相关文章
大口径传输反射镜的研究进展
用模拟退火法确定MgF2薄膜折射率和厚度
HfO2薄膜的离子束刻蚀特性研究
光子晶体激光器掩埋纳米孔结构自动量取
数字散斑干涉应力应变同步测量
相关作者
易葵
马平
邱红
王力军
魏朝阳
赵元安
朱美萍
郭春
相关机构
中国科学院 上海光学精密机械研究所
成都光明光电有限公司
北京有色金属研究总院 稀有金属冶金材料研究所
中国科学院 光电技术研究所
中国科学技术大学, 国家同步辐射实验室


