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适用于光黏工艺的干涉仪公差保证方法
现代应用光学 | 更新时间：2020-08-13
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    • 适用于光黏工艺的干涉仪公差保证方法

    • Tolerance assurance of interferometer for optical HCB process

    • 姚东 ，李钰鹏 ，赵亚 ，王智 ，沙巍 ，王永宪
    • 光学 精密工程 2018年26卷第8期 页码：1945-1953

    • DOI： 10.3788/OPE.20182608.1945     

      中图分类号：

    • 录用：2018-7-23 ，

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